氮化鎵外延結(jié)構(gòu)
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202122942896.3 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN216624314U | 公開（公告）日 | 2022-05-27 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN216624314U | 申請(qǐng)公布日 | 2022-05-27 |
| 分類號(hào) | H01L33/20（2010.01）I;H01L33/32（2010.01）I;H01L33/00（2010.01）I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 徐琳 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 蘇州納維科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 南京利豐知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（特殊普通合伙） | 代理人 | - |
| 地址 | 215000江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號(hào)蘇州納米城西北區(qū)20幢518室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種氮化鎵外延結(jié)構(gòu)，其包括：氮化鎵襯底、設(shè)置在氮化鎵襯底上的氮化鎵成核層、覆蓋在氮化鎵成核層上的致密氮化鎵層以及設(shè)置在致密氮化鎵層上的氮化鎵外延層；其中，所述氮化鎵襯底表面分布有多個(gè)凹陷部，多個(gè)所述凹陷部在氮化鎵襯底表面的分布位置與所述氮化鎵襯底的表面缺陷分布位置相對(duì)應(yīng)。較之現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型提供的氮化鎵外延結(jié)構(gòu)易于制作，生產(chǎn)效率高，其中氮化鎵外延層的質(zhì)量有明顯提升，利于大規(guī)模生產(chǎn)和應(yīng)用。 |
