一種晶片翹曲測試裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202121857867.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN215418104U | 公開(公告)日 | 2022-01-04 |
申請公布號 | CN215418104U | 申請公布日 | 2022-01-04 |
分類號 | H01L21/66(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 徐琳;杜強(qiáng)強(qiáng);沈振華 | 申請(專利權(quán))人 | 蘇州納維科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 杭州鈐韜知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 安佳偉;唐靈 |
地址 | 215123江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號蘇州納米城西北區(qū)20幢518室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型屬于半導(dǎo)體材料制造技術(shù)領(lǐng)域。本實(shí)用新型公開了一種晶片翹曲測試裝置,其包括晶片承托機(jī)構(gòu)、測量裝置及底座;所述晶片承托機(jī)構(gòu)和所述測量裝置設(shè)于所述底座上;所述晶片承托機(jī)構(gòu)中設(shè)有凹槽,所述凹槽用于容納所述測量裝置的測量機(jī)構(gòu);所述測量表圍繞所述晶片承托機(jī)構(gòu)設(shè)置。利用本實(shí)用新型中的晶片翹曲測試裝置可以快速檢測晶片的翹曲度,實(shí)現(xiàn)在2分鐘內(nèi)量化晶片翹曲方向及相應(yīng)的翹曲程度;本實(shí)用新型中的晶片翹曲測試裝置結(jié)構(gòu)簡單,不需要采用復(fù)雜的超聲波或光學(xué)傳感器,也不需要進(jìn)行復(fù)雜的數(shù)據(jù)分析工作,能夠降低檢測成本并提高檢測效率。 |
