氫化物氣相外延法生長III-V族化合物單晶的設備
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202121751342.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN215481424U | 公開(公告)日 | 2022-01-11 |
申請公布號 | CN215481424U | 申請公布日 | 2022-01-11 |
分類號 | C30B29/40(2006.01)I;C30B25/02(2006.01)I;C30B25/10(2006.01)I;C30B25/14(2006.01)I;C30B25/16(2006.01)I | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
發(fā)明人 | 蔡德敏;徐琳;張波;沈振華 | 申請(專利權)人 | 蘇州納維科技有限公司 |
代理機構 | 南京利豐知識產(chǎn)權代理事務所(特殊普通合伙) | 代理人 | 趙世發(fā) |
地址 | 215000江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)金雞湖大道99號蘇州納米城西北區(qū)20幢518室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型公開了一種氫化物氣相外延法生長III?V族化合物單晶的設備,包括:HVPE反應腔室,具有沿預設方向依次連通設置的第一區(qū)域、第二區(qū)域、第三區(qū)域,第一區(qū)域可供III族元素源與氮源反應生成III族氮化物單晶、氫氣和鹵素氫化物,第二區(qū)域可供III族元素源與氫氣反應生成III族元素單質(zhì)和鹵素氫化物;第三區(qū)域可供氮源與鹵素氫化物反應生成銨鹽;加熱裝置,用于分別對所述第一、第二和第三區(qū)域進行加熱;氮源和III族元素源供給機構,所述氮源和III族元素源供給機構與HVPE反應腔室連接。所述設備提高了III族氮化物單晶的產(chǎn)量和純度,并能回收III族元素單質(zhì),降低了III族氮化物單晶的制備成本。 |
