一種MWDM濾光片薄膜制作方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110137361.0 申請日 -
公開（公告）號 CN112962074A 公開（公告）日 2021-06-15
申請公布號 CN112962074A 申請公布日 2021-06-15
分類號 C23C14/35（2006.01）I;C23C14/08（2006.01）I;C23C14/10（2006.01）I;G02B1/10（2015.01）I;G02B5/20（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 陳國彥;曹華燕;周培;伍梓輝 申請（專利權(quán)）人 深圳正和捷思科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳智趣知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 崔艷崢
地址 518000廣東省深圳市龍崗區(qū)坪地街道佳興路2號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種MWDM濾光片薄膜制作方法，包括下列步驟：對玻璃基板進(jìn)行清洗，在玻璃基板上加上100～300V的負(fù)偏壓，通過平面磁控濺射沉積技術(shù)對玻璃基板進(jìn)行鍍膜，在濺射過程中，靶為平面陰極，平行在平面陰極上面的磁場將自由電子限制在陰極靶材表面，離子源將氬氣電離為氬離子，進(jìn)而轟擊靶表面，濺射出來的材料再與氧氣結(jié)合形成氧化物，生成的氧化物再快速沉積在玻璃基板上形成光學(xué)薄膜，光學(xué)薄膜的膜系為TA2O5材料及SIO2材料相交替疊加，同時利用計(jì)算機(jī)進(jìn)行光量值控制，再對玻璃基板的非鍍膜面進(jìn)行研磨拋光和切割。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明能匹配出滿足光譜特性的MWDM濾光片，明顯改善MWDM濾光片產(chǎn)品單爐的成功率，由原來的20％的成功率提升到60％，實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)。