一種單晶爐熱屏真空清潔裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202121309360.1 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN216574596U | 公開(kāi)（公告）日 | 2022-05-24 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN216574596U | 申請(qǐng)公布日 | 2022-05-24 |
| 分類號(hào) | B08B5/04（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I | 分類 | 清潔; |
| 發(fā)明人 | 王振 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 華耀光電科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京開(kāi)陽(yáng)星知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 010070 內(nèi)蒙古自治區(qū)呼和浩特市如意工業(yè)園區(qū)沙爾沁鎮(zhèn)陽(yáng)光大街北、工農(nóng)路東 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型涉及一種單晶爐熱屏真空清潔裝置，包括抽真空箱體，其內(nèi)部用于容放單晶爐熱屏；真空泵，與所述抽真空箱體連通，用于對(duì)所述抽真空箱體內(nèi)部抽真空；過(guò)濾罐，安裝在所述抽真空箱體與所述真空泵之間，并且分別與所述抽真空箱體與所述真空泵連通。使用時(shí)將待清潔的熱屏放入抽真空箱體中，然后啟動(dòng)真空泵對(duì)箱體進(jìn)行抽真空，當(dāng)抽真空箱體內(nèi)的壓力由常壓逐步減小到一定真空度時(shí)，熱屏表面、縫隙及內(nèi)部夾層里的雜質(zhì)及氧化的揮發(fā)物就會(huì)被徹底吸出，然后被沉積在過(guò)濾罐中。該清潔裝置通過(guò)抽真空的方式，將熱屏夾層內(nèi)的雜質(zhì)及氧化物徹底清理干凈，使其不會(huì)對(duì)拉晶原料造成污染，從而降低首次投料拉晶的斷線率，提高產(chǎn)能、節(jié)約成本。 |
