一種掩膜版及套刻精度測(cè)量方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201210230386.6 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN102722082B 公開（公告）日 2019-01-18
申請(qǐng)公布號(hào) CN102722082B 申請(qǐng)公布日 2019-01-18
分類號(hào) G03F1/42;G03F7/20;G03F9/00;H01L21/66 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 李鋼 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 上海華虹宏力半導(dǎo)體制造有限公司
地址 201203 上海市張江高科技園區(qū)祖沖之路1399號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種掩膜版及套刻精度測(cè)量方法，采用相互獨(dú)立的X標(biāo)記和Y標(biāo)記作為套刻標(biāo)記，分列于圖案區(qū)周圍，從而縮小了外圍區(qū)面積，即增大了圖案區(qū)面積，進(jìn)而增加了晶圓上優(yōu)良芯片的數(shù)量，大大的提高了集成度。