一種半導體檢測系統(tǒng)和回刻深度的測量方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201210366154.3 申請日 -
公開（公告）號 CN102856228B 公開（公告）日 2018-03-30
申請公布號 CN102856228B 申請公布日 2018-03-30
分類號 H01L21/66 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 樓穎穎 申請（專利權）人 上海宏力半導體制造有限公司
代理機構 上海思微知識產(chǎn)權代理事務所（普通合伙） 代理人 上海華虹宏力半導體制造有限公司
地址 201203 上海市張江高科技園區(qū)祖沖之路1399號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種半導體檢測系統(tǒng)和回刻深度的測量方法，設置一標準模板，接著對待檢對象進行圖像采集，獲取實際情況下的圖像，并與標準模板進行比較，從而判斷出回刻后的深度狀況，該方法簡便易行，有利于在早期發(fā)現(xiàn)缺陷，從而能夠大大的節(jié)省成本，并能夠較好的控制產(chǎn)出器件的良率。