測(cè)距裝置以及測(cè)距方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110176362.6 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113985425A 公開（公告）日 2022-01-28
申請(qǐng)公布號(hào) CN113985425A 申請(qǐng)公布日 2022-01-28
分類號(hào) G01S17/10（2020.01）I 分類 測(cè)量；測(cè)試;
發(fā)明人 印秉宏;王佳祥 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 廣州印芯半導(dǎo)體技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 宋興;臧建明
地址 510710廣東省廣州市黃埔區(qū)科學(xué)大道18號(hào)A棟11樓1103單元
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種測(cè)距裝置以及測(cè)距方法。測(cè)距裝置包括發(fā)光源、圖像傳感器以及處理器。發(fā)光源在不同時(shí)間投射多個(gè)投影圖案至待測(cè)物的表面。圖像傳感器同步于所述多個(gè)投影圖案的投射時(shí)間來感測(cè)待測(cè)物的表面，以取得分別對(duì)應(yīng)于所述多個(gè)投影圖案的多個(gè)感測(cè)圖像。處理器分析所述多個(gè)感測(cè)圖像，以決定待測(cè)物的深度信息。處理器執(zhí)行三角函數(shù)計(jì)算來取得深度信息。