一種非易失性存儲(chǔ)器件及其設(shè)計(jì)方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN200710175710.8 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN101132025A | 公開(公告)日 | 2008-02-27 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN101132025A | 申請(qǐng)公布日 | 2008-02-27 |
分類號(hào) | H01L29/788(2006.01);H01L29/423(2006.01);H01L29/49(2006.01);H01L27/115(2006.01) | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 朱一明;胡洪 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 北京市中關(guān)村小額貸款股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 許靜 |
地址 | 100084北京市海淀區(qū)清華科技園學(xué)研大廈B座301室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種非易失性存儲(chǔ)器件及其設(shè)計(jì)方法:包括:金屬層、接觸孔、阻擋層和晶體管,晶體管包括多晶硅層,金屬層與接觸孔形成控制柵;多晶硅層在阻擋層的阻隔下未與接觸孔直接連接而形成浮柵;其中,金屬層、接觸孔、阻擋層和多晶硅層依次連接共同形成電容結(jié)構(gòu)。通過本發(fā)明大大提高了控制柵與浮柵耦合電容的電容密度,減小了存儲(chǔ)單元的面積,并有利于集成系統(tǒng)的金屬線連接。 |
