晶圓片及其制作方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110389796.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN113161868A | 公開(公告)日 | 2021-07-23 |
申請公布號(hào) | CN113161868A | 申請公布日 | 2021-07-23 |
分類號(hào) | H01S5/187(2006.01)I;H01S5/20(2006.01)I;H01S5/34(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 韓春霞;楊旭;劉哲;周璇;黃蓓 | 申請(專利權(quán))人 | 武漢仟目激光有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京匯澤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 張濤 |
地址 | 430205湖北省武漢市東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)湯遜湖北路33號(hào)華工科技園·創(chuàng)新基地13棟1單元1層01號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種晶圓片的制作方法,包括S1,在襯底上依次生長N型分布式布拉格反射鏡層和P型分布式布拉格反射鏡層;S2,在襯底背離N型分布式布拉格反射鏡層的一側(cè)生長應(yīng)力平衡層;S3,在應(yīng)力平衡層上再制作金屬加厚層。還提供一種晶圓片,本體包括N型分布式布拉格反射鏡層以及P型分布式布拉格反射鏡層,本體靠近N型分布式布拉格反射鏡層的一側(cè)為N面,本體靠近P型分布式布拉格反射鏡層的一側(cè)為P面;于本體的N面生長應(yīng)力平衡層,并于應(yīng)力平衡層上制作金屬加厚層。本發(fā)明可以減小應(yīng)力而避免破片的風(fēng)險(xiǎn),進(jìn)而提升了器件的穩(wěn)定性和可靠性,同時(shí)制作的金屬加厚層一方面可以保護(hù)應(yīng)力平衡層,另一方面可以使N面金屬更加光滑平坦便于后續(xù)封裝。 |
