分布反饋式面發(fā)射激光器及其制作方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010674651.4 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN111725701A 公開(公告)日 2020-09-29
申請(qǐng)公布號(hào) CN111725701A 申請(qǐng)公布日 2020-09-29
分類號(hào) H01S5/12(2006.01)I;H01S5/10(2006.01)I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 蔡建新 申請(qǐng)(專利權(quán))人 武漢仟目激光有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京匯澤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 武漢仟目激光有限公司
地址 430205湖北省武漢市東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)湯遜湖北路33號(hào)華工科技園·創(chuàng)新基地13棟1單元1層01號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及激光器技術(shù)領(lǐng)域,提供了一種分布反饋式面發(fā)射激光器,包括由上而下依次布設(shè)的襯底、中間層、接觸層以及金屬層,激光器還包括掩埋在中間層靠近所述接觸層的部分中的光柵層。還提供一種分布反饋式面發(fā)射激光器的制作方法,包括如下步驟:S1,由上而下依次布設(shè)襯底、上包層、上波導(dǎo)層、有源層、下波導(dǎo)層、下包層、接觸層以及金屬層;S2,在所述下包層中制作光柵層,或者是在所述下波導(dǎo)層中制作光柵層,或者是在所述下包層和所述下波導(dǎo)層之間制作光柵層。本發(fā)明通過將光柵層掩埋在中間層靠近接觸層的部分中,能夠完全保證接觸層不被損傷,使工藝處理可靠,容錯(cuò)率高,從而明顯有效地提高良率。??