一種銀金屬薄膜層蝕刻液及其制備、應(yīng)用

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110022572.X 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN112852429A 公開(kāi)(公告)日 2021-05-28
申請(qǐng)公布號(hào) CN112852429A 申請(qǐng)公布日 2021-05-28
分類(lèi)號(hào) C09K13/06(2006.01)I 分類(lèi) 染料;涂料;拋光劑;天然樹(shù)脂;黏合劑;其他類(lèi)目不包含的組合物;其他類(lèi)目不包含的材料的應(yīng)用;
發(fā)明人 馮衛(wèi)文;王芳;侯倩;張靖?jìng)?/td> 申請(qǐng)(專利權(quán))人 綿陽(yáng)艾薩斯電子材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 成都行之專利代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 唐邦英
地址 621000四川省綿陽(yáng)市經(jīng)開(kāi)區(qū)三江大道327號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種銀金屬薄膜層蝕刻液及其制備、應(yīng)用,銀金屬薄膜層蝕刻液包括以下質(zhì)量百分比組分:磷酸55%,醋酸15%,硝酸5?6.5%,醋酸鹽0.7?1%,亞氨基類(lèi)0.1?0.2%,咪唑啉類(lèi)衍生物0.1?0.2%,余量為水。發(fā)明通過(guò)在蝕刻液中同時(shí)添加一定比例的醋酸、醋酸和咪唑啉類(lèi)衍生物,有效的解決藥液酸度過(guò)高而導(dǎo)致的過(guò)刻蝕、刻蝕不均勻、銀回粘現(xiàn)象、小黑點(diǎn)的缺陷等問(wèn)題,使藥液性能更穩(wěn)定、使用壽命更長(zhǎng)、藥液兼容性更強(qiáng),蝕刻良率更高。??