一種柔性濕度傳感器用鎳鉻-鋁電極圖形制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010095444.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN111206245A | 公開(公告)日 | 2020-05-29 |
申請公布號 | CN111206245A | 申請公布日 | 2020-05-29 |
分類號 | C23C30/00;C23F1/02;C23F1/20 | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 石華平;黎威志;陳德林 | 申請(專利權)人 | 江蘇友潤微電子有限公司 |
代理機構 | 南京蘇科專利代理有限責任公司 | 代理人 | 江蘇友潤微電子有限公司 |
地址 | 225000 江蘇省揚州市邗江區(qū)西湖鎮(zhèn)甘泉生態(tài)科技園 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種柔性濕度傳感器用鎳鉻?鋁電極圖形制備方法,包括以下步驟:將硅或玻璃襯底徹底清洗干燥;在襯底上沉積一薄層鋁;旋涂正性光刻膠并低溫烘烤幾分鐘;光刻膠采用互補的負光刻版曝光以形成引出端和電極圖形;顯影,然后用磷酸腐蝕暴露出的鋁;在丙酮中去除光刻膠,此時襯底上除了電極和引出端圖形區(qū)外,其他區(qū)域都覆蓋了鋁薄膜;襯底徹底清洗干燥后連續(xù)沉積一層鎳鉻薄膜和鋁薄膜,沉積過程中襯底不加溫;旋涂正性光刻膠并低溫烘烤幾分鐘;采用正性光刻版圖曝光形成引出端圖形并顯影;用磷酸刻蝕暴露的鋁薄膜;襯底在去離子水中徹底清洗后,用丙酮去掉光刻膠,形成鎳鉻電極圖形,本發(fā)明工藝簡單、成本低。 |
