超短焦正投影用抗光幕布
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202022112858.0 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN213149466U | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-05-07 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN213149466U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-05-07 |
| 分類號(hào) | G03B21/60(2014.01)I | 分類 | 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 安曼;焦康;成志秀;梁立華;趙義麗;許劍 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 上海樂(lè)凱新材料科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 肖陽(yáng) |
| 地址 | 071054 河北省保定市樂(lè)凱南大街6號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了超短焦正投影用抗光幕布。該超短焦正投影用抗光幕布包括：光學(xué)棱鏡層和表層；光學(xué)棱鏡層包括基底和多個(gè)光學(xué)棱鏡單元；光學(xué)棱鏡單元包括上側(cè)面、下側(cè)面和底面，底面設(shè)在基底上；表層形成在光學(xué)棱鏡層遠(yuǎn)離基底的至少部分表面；表層包括支撐層，以及形成在支撐層遠(yuǎn)離光學(xué)棱鏡層的至少部分表面上的多條反射條紋，多條反射條紋彼此間隔設(shè)置，且反射條紋位于與下側(cè)面相貼合的支撐層上。該幕布將光學(xué)棱鏡層的一部分作為基底，省去了傳統(tǒng)的幕布基材層，降低了幕布的厚度；同時(shí)采用設(shè)置有間隔反射條紋的支撐層作為表層，與傳統(tǒng)的直接光學(xué)棱鏡單元側(cè)面涂覆反射層的工藝相比，可大幅度提高幕布產(chǎn)品的良品率，并減低生產(chǎn)成本。?? |
