一種可連續(xù)大面積均勻化學(xué)氣相沉積的噴頭系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200810072222.9 申請日 -
公開（公告）號 CN101492812A 公開（公告）日 2009-07-29
申請公布號 CN101492812A 申請公布日 2009-07-29
分類號 C23C16/44(2006.01)I;C23C16/30(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 鄭玉祥;周均;范紅兵;陳飛;趙國旭 申請（專利權(quán)）人 招商局漳州開發(fā)區(qū)絲路新能源有限公司
代理機(jī)構(gòu) 廈門市新華專利商標(biāo)代理有限公司 代理人 招商局漳州開發(fā)區(qū)創(chuàng)大太陽能有限公司;招商局漳州開發(fā)區(qū)創(chuàng)達(dá)太陽能科技有限公司
地址 363000福建省漳州市招商局漳州開發(fā)區(qū)湯洋工業(yè)園三號通用廠房2樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開一種可連續(xù)大面積均勻化學(xué)氣相沉積的噴頭系統(tǒng)，包括輸送管路、固定面板、安裝在固定面板上部的一次反應(yīng)氣體混合腔體、安裝在固定面板下部的噴管，噴管具有噴氣口，在固定面板的上部還安裝了循環(huán)水冷卻系統(tǒng)，在固定面板的下部還安裝了二次反應(yīng)氣體混合腔體，噴管罩在二次反應(yīng)氣體混合腔體中，二次反應(yīng)氣體混合腔體的橫截面呈“V”字型，二次反應(yīng)氣體混合腔體的底部開有單縫隙噴嘴，原料氣體經(jīng)由輸送管路進(jìn)入一次反應(yīng)氣體混合腔體，再進(jìn)入噴管中，然后從噴管的噴氣口噴出后進(jìn)入二次反應(yīng)氣體混合腔體，最后由單縫隙噴嘴噴出。此系統(tǒng)可以降低沉積溫度，使大面積沉積時薄膜的均勻性容易控制，以保證連續(xù)大規(guī)模生產(chǎn)的正常進(jìn)行。