一種兩用雙通道樹脂濾光片的生產(chǎn)方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110073543.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN112899622A | 公開（公告）日 | 2021-06-04 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112899622A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-04 |
| 分類號(hào) | C23C14/24;C23C14/02;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/50;G02B5/20 | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 增田清志;增田博志;龔裕 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 蘇州京浜光電科技股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 蘇州圓融專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 郭珊珊 |
| 地址 | 215501 江蘇省蘇州市常熟經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)高新技術(shù)園柳州路7號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種兩用雙通道樹脂濾光片的生產(chǎn)方法，包括以下步驟：S1：基板材料的選擇：選擇樹脂薄膜材料作為基板；S2：鍍膜材料的選擇：選擇高純度的石英硅環(huán)作為低折射率蒸鍍物質(zhì)，選擇結(jié)晶態(tài)高純度的氧化鈦?zhàn)鳛楦哒凵渎收翦兾镔|(zhì)；S3：將基板和鍍膜材料進(jìn)行表面惰性氣體除靜電吹淋；S4：鍍膜工裝夾具的處理：鍍膜工裝夾具在裝夾鍍膜基板前進(jìn)行高溫烘烤和離子除靜電處理；S5：真空蒸鍍處理：將基板一側(cè)交替蒸鍍石英硅環(huán)和氧化鈦，交替蒸鍍的層數(shù)為20?40層，形成雙通主膜系；將基板另一側(cè)交替蒸鍍石英硅環(huán)和氧化鈦，交替蒸鍍的層數(shù)為16?26層，形成短波通。本發(fā)明，比玻璃雙通濾光片更薄，柔性材料更容易加工成各種形狀，且不易破碎。 |
