一種多角度低反射紅外截止濾光膜的設(shè)計方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110073584.5 申請日 -
公開（公告）號 CN112925054A 公開（公告）日 2021-06-08
申請公布號 CN112925054A 申請公布日 2021-06-08
分類號 G02B5/20;C23C14/24;C23C14/10;C23C14/08 分類 光學(xué);
發(fā)明人 增田清志;增田博志;孟慶宣 申請（專利權(quán)）人 蘇州京浜光電科技股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蘇州圓融專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 郭珊珊
地址 215501 江蘇省蘇州市常熟經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)高新技術(shù)園柳州路7號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種多角度低反射紅外截止濾光膜的設(shè)計方法，包括以下步驟：基底材料的選擇；制備高低折射率材料的單層膜；將倒置的膜堆參數(shù)導(dǎo)入光學(xué)設(shè)計軟件，調(diào)節(jié)關(guān)鍵膜層厚度，輸入優(yōu)化條件后，進(jìn)行多角度低反射紅外截止濾光膜優(yōu)化設(shè)計；基底材料的一面先蒸鍍粘結(jié)層，然后以不同條件交替蒸鍍氧化硅層和氧化鈦層。本發(fā)明，通過2個標(biāo)準(zhǔn)膜堆進(jìn)行堆疊設(shè)計，采用厚膜堆在前，薄膜堆在后，并將靠近基底的前兩層高低折射率材料的膜層厚度設(shè)置為約1/4光學(xué)厚度的薄層，同時在最后添加4層薄層作為干涉層，然后通過軟件進(jìn)一步優(yōu)化，最終設(shè)計0度和30度可見光波段反射顯著降低，反射設(shè)計余量充足，生產(chǎn)良率高。