響應(yīng)類型可調(diào)的二維半導(dǎo)體室溫氫氣傳感器及制作方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110072715.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112881476B | 公開(公告)日 | 2022-06-28 |
申請公布號 | CN112881476B | 申請公布日 | 2022-06-28 |
分類號 | G01N27/12(2006.01)ICN 104374810 A,2015.02.25;CN 107315035 A,2017.11.03;CN 105272358 A,2016.01.27;CN 101294928 A,2008.10.29;CN 106198631 A,2016.12.07 Kusuma Urs MB等.Multi-component (Ag-Au-Cu-Pd-Pt) Alloy Nanoparticles Decorated p-type 2D-Molybdenum Disulphide (MoS2) for Enhanced Hydrogen Sensing.《Nanoscale》.2020,;Dongzhi Zhang等.Room temperature hydrogen gas sensor based on palladiumdecorated tin oxide/molybdenum disulfide ternary hybrid viahydrothermal route.《Sensors and Actuators B: Chemical》.2016, | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 王釗;楊偉佳;談?wù)?熊娟;顧豪爽 | 申請(專利權(quán))人 | 湖北大學(xué) |
代理機構(gòu) | 武漢帥丞知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | - |
地址 | 430062湖北省武漢市武昌區(qū)友誼大道368號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開一種響應(yīng)類型可調(diào)的二維半導(dǎo)體室溫氫氣傳感器及制作方法,所述氫氣傳感器通過化學(xué)氣相沉積法(CVD)在Si/SiO2襯底上生長二維MoS2薄膜,再利用滴涂的方法在MoS2薄膜上修飾SnO2制備,其制作方法為:對管式爐內(nèi)高、低溫區(qū)裝有MoO3和升華硫的石英舟(且MoO3上有Si/SiO2襯底)依次抽負(fù)壓—充氬氣三次,再保壓并分別加熱高低溫區(qū)至設(shè)定值得到MoS2薄膜,在MoS2薄膜的Si/SiO2襯底上制備基于MoS2薄膜的氫敏器件,將SnO2水膠分散液滴涂在氫敏器件上,經(jīng)真空干燥、真空退火得到。傳感器可在室溫下工作,靈敏可靠、成本低且易于集成,利用SnO2對二維MoS2薄膜進(jìn)行修飾,實現(xiàn)對氫氣的從n型到p型響應(yīng)的轉(zhuǎn)變,二維MoS2薄膜電子傳輸快,精度高,信噪比高,具有能與傳統(tǒng)Si技術(shù)集成的高兼容性。 |
