一種含微量元素的大管徑Ni-V旋轉(zhuǎn)靶材及其制備方法
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201910869200.3 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN110468382B | 公開（公告）日 | 2021-04-09 |
| 申請公布號 | CN110468382B | 申請公布日 | 2021-04-09 |
| 分類號 | C22C1/02(2006.01)I;C22C19/03(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C22F1/10(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 吳宇寧;卿海標(biāo);周其剛 | 申請（專利權(quán)）人 | 南京達(dá)邁科技實(shí)業(yè)股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 柏尚春 |
| 地址 | 211102江蘇省南京市江寧經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)殷巷九竹路鋪崗街379號 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種含微量元素的大管徑Ni?V旋轉(zhuǎn)靶材及其制備方法，旋轉(zhuǎn)靶材包括按質(zhì)量百分比計(jì)的如下組分：C 0.01～0.05％，B 0.01～0.08％，Ti 0.001～0.006％，Mg 0.01～0.05％，V 6～8％以及余量Ni和不可避免的雜質(zhì)。制備步驟依次采用真空熔煉、熱鍛、機(jī)加工、熱擠壓、酸洗處理、固溶處理、冷軋或鏜孔、退火處理、機(jī)加工或綁定。本發(fā)明在Ni?V的基礎(chǔ)上，添加微量的元素C、B、Ti、Mg進(jìn)行成分優(yōu)化，降低氧、硫等含量，且能抑制裂紋的萌生，提高靶材的晶界結(jié)合力、強(qiáng)度，并細(xì)化晶粒，從而提高成材率；通過優(yōu)選熱加工工藝參數(shù)，降低了廢品率。?? |
