一種用于陣列波導(dǎo)的鍍膜方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110784782.2 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN113481483A 公開(kāi)（公告）日 2021-10-08
申請(qǐng)公布號(hào) CN113481483A 申請(qǐng)公布日 2021-10-08
分類號(hào) C23C14/54（2006.01）I;C23C14/34（2006.01）I;C23C14/24（2006.01）I;C23C14/08（2006.01）I;C23C14/10（2006.01）I;G02B6/10（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 沈旭輝;金波;鄭臻榮;劉書(shū)墨;張敷陽(yáng) 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 杭州科汀光學(xué)技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 代理人 陳升華
地址 311100浙江省杭州市余杭經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)天荷路21號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種用于陣列波導(dǎo)的鍍膜方法——該鍍膜方法以陣列波導(dǎo)每層膜系出射光束能量的均勻性為準(zhǔn)則，通過(guò)計(jì)算評(píng)估每層膜系對(duì)不同角度光束的反射率，給出鍍膜技術(shù)指標(biāo)，然后將鍍膜技術(shù)指標(biāo)作為膜系設(shè)計(jì)的優(yōu)化條件，建立膜系結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)大角度光束截止，最后將設(shè)計(jì)好的膜系鍍?cè)跍y(cè)試片上，觀測(cè)測(cè)試數(shù)據(jù)是否滿足鍍膜技術(shù)指標(biāo)要求，滿足則在濺射機(jī)和蒸鍍機(jī)上鍍膜。