一種低應(yīng)力的多層薄膜濾光片及其制備方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010323455.2 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN111399103A | 公開（公告）日 | 2020-07-10 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN111399103A | 申請(qǐng)公布日 | 2020-07-10 |
| 分類號(hào) | G02B5/28(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 吳江波;劉璐;艾曼靈;金波;鄭臻榮;顧培夫 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 杭州科汀光學(xué)技術(shù)有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 杭州科汀光學(xué)技術(shù)有限公司 |
| 地址 | 311100浙江省杭州市余杭經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)天荷路21號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開一種低應(yīng)力的多層薄膜濾光片及其制備方法，基底為3.3硼硅玻璃，多層薄膜濾光片為雙半波窄帶干涉濾光片。3.3硼硅玻璃的線膨脹系數(shù)為3.3×10?6/度；為減小濾光片的結(jié)累應(yīng)力，采用基底加熱和離子輔助兩種技術(shù)。當(dāng)基底溫度250℃時(shí)，TiO2和SiO2膜的聚集密度分別為接近于1和0.92，濾光片的結(jié)累張應(yīng)力為10.8MPa；若選擇離子能量350eV，并保持到達(dá)基底的輔助離子數(shù)與淀積分子數(shù)之比JI/JM對(duì)TiO2和SiO2膜分別為0.15和0.05，則TiO2和SiO2的聚集密度分別為接近于1和0.96，濾光片的結(jié)累壓應(yīng)力為?7MPa。這種低應(yīng)力薄膜濾光片可廣泛應(yīng)用于各種光電儀器。?? |
