一種抗電浪涌低壓保護(hù)硅二極管及其制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201110116537.0 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN102194894B | 公開(公告)日 | 2013-01-02 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN102194894B | 申請(qǐng)公布日 | 2013-01-02 |
分類號(hào) | H01L29/861(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L21/329(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 陳福元;毛建軍;胡煜濤;朱志遠(yuǎn);王錚;任亮 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 杭州杭鑫電子工業(yè)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 | 代理人 | 張法高 |
地址 | 310053 浙江省杭州市濱江區(qū)高新軟件園7#樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種抗電浪涌低壓保護(hù)硅二極管及其制備方法。它包括如下步驟:1)在P型硅單晶拋光片表面上擴(kuò)散入N+型半導(dǎo)體雜質(zhì)磷,得到PN+硅片;2)用電子化學(xué)清洗1#液和2#液清洗PN+硅片,經(jīng)過純水沖洗,將硅片甩干;3)在清洗后的PN+硅片上進(jìn)行N-型外延生長,得到PN+N-硅片;4)在PN+N-硅片上擴(kuò)散入N+型半導(dǎo)體雜質(zhì)磷,得到PN+N-N+的硅片;5)在PN+N-N+硅片的雙表面鍍上金屬層,進(jìn)行合金,鋸切,得到二極管芯片;6)將二極管芯片與封裝底座焊接,上保護(hù)膠、壓模成型封裝成器件。本發(fā)明制造的抗電浪涌低壓保護(hù)硅二極管具有生產(chǎn)設(shè)備通用,產(chǎn)品性價(jià)比高,市場廣闊的特點(diǎn)。 |
