光學(xué)鍍膜反射率的測量及顯示方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN200710054020.7 申請日 -
公開（公告）號 CN100454045C 公開（公告）日 2009-01-21
申請公布號 CN100454045C 申請公布日 2009-01-21
分類號 G02B1/10(2006.01);G01M11/02(2006.01);G01N21/55(2006.01) 分類 光學(xué);
發(fā)明人 趙升林;孫龍;菊池和夫 申請（專利權(quán)）人 南陽中光學(xué)機(jī)電裝備有限公司
代理機(jī)構(gòu) 鄭州聯(lián)科專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 河南中光學(xué)集團(tuán)有限公司
地址 473000河南省南陽市工業(yè)路508號河南中光學(xué)集團(tuán)有限公司
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種用于光學(xué)鍍膜監(jiān)控的光學(xué)鍍膜反射率的測量及顯示方法，它是利用計(jì)算機(jī)快速準(zhǔn)確的數(shù)據(jù)處理功能，對薄膜蒸鍍過程中反射率的變化進(jìn)行在線測量和實(shí)時顯示，并依據(jù)鍍膜曲線峰值或谷值點(diǎn)的反射率值精確地確定蒸鍍停止點(diǎn)。使用該方法，可以直觀、精確地觀察當(dāng)前膜層蒸鍍過程，更加快速地計(jì)算峰值點(diǎn)處光學(xué)基件的實(shí)際折射率和實(shí)際蒸鍍膜厚，并能準(zhǔn)確地確定和控制鍍膜的停止點(diǎn)，從而獲得高精密度的光學(xué)鍍件。