陽光控制低輻射涂層溶液及其制備方法和用途
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN200410009078.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN100441646C | 公開(公告)日 | 2008-12-10 |
申請公布號 | CN100441646C | 申請公布日 | 2008-12-10 |
分類號 | C09D163/00(2006.01);C09D133/00(2006.01);C09D5/00(2006.01) | 分類 | 染料;涂料;拋光劑;天然樹脂;黏合劑;其他類目不包含的組合物;其他類目不包含的材料的應用; |
發(fā)明人 | 曹新宇;江雷 | 申請(專利權)人 | 中科納米技術工程中心有限公司 |
代理機構 | 上海智信專利代理有限公司 | 代理人 | 長春迪高實業(yè)有限公司 |
地址 | 130033吉林省長春市經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)世紀大街9號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種水性溶液體系的組成及用此溶液制備陽光控制低輻射涂層的方法,構成此涂層的溶液體系至少包含一種摻雜金屬氧化物的納米粒子和高分子成膜成份。該溶液體系的分散介質(zhì)為水、水和醇類、水和醇類及酯類的混合溶液,分散介質(zhì)不含苯、甲苯及毒害大的揮發(fā)成分;該涂層的制備為常壓下成膜,處理溫度不超過150攝氏度;如有必要,此涂層可復合其它薄膜以得到更佳陽光控制和低輻射的效果。溶液可直接涂敷于玻璃表面和有機材料表面,不受基材的形狀和尺寸限制,具有良好的耐磨性。 |
