一種基于DMD的光刻機(jī)圖形拼接誤差的檢測(cè)與修正方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111532272.2 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN114488704A | 公開(公告)日 | 2022-05-13 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN114488704A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-05-13 |
分類號(hào) | G03F7/20(2006.01)I | 分類 | 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕; |
發(fā)明人 | 廉治華;謝軍;劉敏;樊廷慧;程衛(wèi)濤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 西安金百澤電路科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 深圳市千納專利代理有限公司 | 代理人 | - |
地址 | 516081廣東省惠州市大亞灣區(qū)響水河龍山六路 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種基于DMD的光刻機(jī)圖形拼接誤差的檢測(cè)與修正方法,包括線路圖形設(shè)計(jì);拼接重疊區(qū)域設(shè)定;拼接圖形設(shè)計(jì);線路圖形曝光顯影;拼接圖形曝光顯影;重合線條判斷;DMD偏移位置判斷;DMD位置補(bǔ)償;上述檢測(cè)與修正方法,將基準(zhǔn)圖形和偏移圖形分別利用基準(zhǔn)DMD和非基準(zhǔn)DMD在透明片上的拼接重疊區(qū)域內(nèi)進(jìn)行曝光,判斷非基準(zhǔn)DMD曝光的偏移圖形與基準(zhǔn)DMD曝光的基準(zhǔn)圖形的重合線條,根據(jù)重合線條判斷非基準(zhǔn)DMD與基準(zhǔn)DMD的位置是否有偏移,有偏移則根據(jù)線條預(yù)設(shè)間距值調(diào)整非基準(zhǔn)DMD的位置,可節(jié)省測(cè)量時(shí)間,提高了檢測(cè)效率,同時(shí)避免受測(cè)量?jī)x器的誤差影響,以及圖形拼接誤差測(cè)量不精準(zhǔn)帶來的干擾。 |
