一種用于硅片拋光粗拋工序的拋光液及其制備方法和應(yīng)用
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011604304.0 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN112680112A | 公開（公告）日 | 2021-04-20 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112680112A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-04-20 |
| 分類號(hào) | C09G1/02(2006.01)I | 分類 | 染料；涂料；拋光劑；天然樹脂；黏合劑；其他類目不包含的組合物；其他類目不包含的材料的應(yīng)用; |
| 發(fā)明人 | 裴亞利;趙雪振;操應(yīng)軍;劉陽 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 北京航天賽德科技發(fā)展有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京方韜法業(yè)專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 劉青霞 |
| 地址 | 100000北京市海淀區(qū)藍(lán)靛廠南路59號(hào)23號(hào)樓二層 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種用于硅片拋光粗拋工序的拋光液及其制備方法和應(yīng)用，屬于拋光液領(lǐng)域，包括如下重量百分比的組分：二氧化硅膠體20％?40％、非離子活性劑0.01％?0.05％、分散劑0.1％?0.5％、絡(luò)合劑1％?5％和抑泡劑0.05％?0.1％，有機(jī)堿調(diào)節(jié)pH至11?13，余量為去離子水。本發(fā)明采用二氧化硅膠體為主要原料，并通過合理搭配助劑，可提供較快的粗拋速率，從而達(dá)到最佳的拋光效果。?? |
