一種噴釉誤差小的噴釉柜

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202122805493.4 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN215319447U 公開（公告）日 2021-12-28
申請(qǐng)公布號(hào) CN215319447U 申請(qǐng)公布日 2021-12-28
分類號(hào) B28B11/04（2006.01）I;B28B17/04（2006.01）I 分類 加工水泥、黏土或石料;
發(fā)明人 曾權(quán);田俊;黃國勝;謝穗;管霞菲;曾立華 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 清遠(yuǎn)納福娜陶瓷有限公司
代理機(jī)構(gòu) 佛山市禾才知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 劉羽波;陳嘉琦
地址 528000廣東省佛山市禪城區(qū)江灣三路8號(hào)二層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種噴釉誤差小的噴釉柜,涉及陶瓷生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。一種噴釉誤差小的噴釉柜，包括柜體和噴釉裝置，噴釉裝置安裝于柜體的頂部；噴釉裝置包括多支第一噴槍和多支第二噴槍，多支第一噴槍和多支第二噴槍分別相互交替間隔設(shè)置，多支第一噴槍的噴頭均沿柜體的中心線向柜體的右側(cè)傾斜，多支第二噴槍的噴頭沿柜體的中心線向柜體的左側(cè)傾斜，且多支第一噴槍的噴頭和多支第二噴槍的噴頭均伸進(jìn)柜體內(nèi)。本實(shí)用新型的一種噴釉誤差小的噴釉柜，具有噴釉量較均勻和噴釉誤差小的優(yōu)點(diǎn)，解決了現(xiàn)有噴釉柜在噴釉時(shí)因磚坯中間的噴釉量大而左右兩側(cè)的噴釉量小，而導(dǎo)致噴釉誤差大和噴釉效果不佳的問題。