單片晶圓清洗裝置清洗盤結(jié)構(gòu)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120477189.9 申請日 -
公開（公告）號 CN214254367U 公開（公告）日 2021-09-21
申請公布號 CN214254367U 申請公布日 2021-09-21
分類號 H01L21/67（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 錢誠;李文亭;朱震 申請（專利權(quán)）人 亞電科技南京有限公司
代理機構(gòu) 北京商專潤文專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 陳平
地址 210000江蘇省南京市江寧區(qū)雙龍大道1347號同曦大廈605-7室（江寧開發(fā)區(qū)）
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請涉及一種單片晶圓清洗裝置清洗盤結(jié)構(gòu)，晶圓朝上由清洗液噴管噴出清洗液進(jìn)行清洗，再由清水噴管噴出清水，以去除晶圓上的清洗劑殘留，使用清洗液噴管和清水噴管時，通過旋轉(zhuǎn)清洗液噴管和清水噴管使之對應(yīng)到達(dá)晶圓上方，無須使用則將清洗液噴管和清水噴管移走以防止干擾，清洗液噴管為并列的若干根可噴出不同類型的清洗液，實現(xiàn)一機多用。同時，加熱后的氮氣從轉(zhuǎn)軸中間的通道經(jīng)過空腔從通孔噴出，在加熱晶圓的同時，在晶圓底部形成氣流防止清洗液流入晶圓底面。