基于往復升縮的半導體晶圓外壁清洗裝置和方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110365952.3 申請日 -
公開（公告）號 CN112802783A 公開（公告）日 2021-06-18
申請公布號 CN112802783A 申請公布日 2021-06-18
分類號 H01L21/67;B08B3/02;B08B3/14;B08B1/02;B08B13/00 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 錢誠;李剛;童建 申請（專利權）人 亞電科技南京有限公司
代理機構 北京商專潤文專利代理事務所（普通合伙） 代理人 陳平
地址 210000 江蘇省南京市江寧區(qū)雙龍大道1347號同曦大廈605-7室（江寧開發(fā)區(qū)）
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種清洗裝置，具體地說，涉及基于往復升縮的半導體晶圓外壁清洗裝置和方法。其包括沖刷裝置以及安裝在所述沖刷裝置上方的清洗裝置，所述沖刷裝置包括安裝臺、儲水箱和安裝箱，所述儲水箱固定在安裝臺頂部的一端，該基于往復升縮的半導體晶圓外壁清洗裝置及其凈水方法中，通過設置的負壓機和固定臺，可以對晶圓進行負壓固定，以便于晶圓的外壁可以被完整的清洗到，解決了現有的裝置晶圓與固定裝置接觸的部分無法被清洗，導致清洗完畢后還需要人工對晶圓與固定裝置接觸的部分清洗，進而提高了對晶圓的清洗時間的問題。