單片晶圓清洗裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202120476734.2 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN214624981U 公開(kāi)（公告）日 2021-11-05
申請(qǐng)公布號(hào) CN214624981U 申請(qǐng)公布日 2021-11-05
分類號(hào) H01L21/67（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 錢(qián)誠(chéng);夏振;霍召軍 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 亞電科技南京有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京商專潤(rùn)文專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 陳平
地址 210000江蘇省南京市江寧區(qū)雙龍大道1347號(hào)同曦大廈605-7室（江寧開(kāi)發(fā)區(qū)）
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請(qǐng)涉及一種單片晶圓清洗裝置，晶圓朝上由清洗液噴管?chē)姵銮逑匆哼M(jìn)行清洗，再由清水噴管?chē)姵銮逅?，以去除晶圓上的清洗劑殘留，使用清洗液噴管和清水噴管時(shí)，通過(guò)旋轉(zhuǎn)清洗液噴管和清水噴管使之對(duì)應(yīng)到達(dá)晶圓上方，無(wú)須使用則將清洗液噴管和清水噴管移走以防止干擾，清洗液噴管為并列的若干根可噴出不同類型的清洗液，實(shí)現(xiàn)一機(jī)多用。同時(shí)，加熱后的氮?dú)鈴霓D(zhuǎn)軸中間的通道經(jīng)過(guò)空腔從通孔噴出，在加熱晶圓的同時(shí)，在晶圓底部形成氣流防止清洗液流入晶圓底面。