一種激光加工晶圓的方法及裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201710574318.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN107378255B | 公開(公告)日 | 2019-03-15 |
申請公布號 | CN107378255B | 申請公布日 | 2019-03-15 |
分類號 | B23K26/362(2014.01)I; B23K26/067(2006.01)I; B23K26/70(2014.01)I | 分類 | 機(jī)床;不包含在其他類目中的金屬加工; |
發(fā)明人 | 劉嵩; 侯煜; 張紫辰 | 申請(專利權(quán))人 | 北京中科微知識產(chǎn)權(quán)服務(wù)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京匯澤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 中國科學(xué)院微電子研究所;北京中科鐳特電子有限公司 |
地址 | 100029 北京市朝陽區(qū)北土城西路3號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種激光加工晶圓的方法及裝置,所述方法包括:向晶圓上表面Low?K層發(fā)射一檢測光束;獲取檢測光束的反射光;根據(jù)所述反射光得出晶圓上表面Low?K層的表面均勻度的改變信息,并按所述表面均勻度的改變信息調(diào)整激光光束對晶圓上表面Low?K層進(jìn)行刻蝕。本發(fā)明能夠通過一檢測光束實(shí)現(xiàn)對所述晶圓上表面Low?K層的表面均勻度的檢測;進(jìn)而根據(jù)所述晶圓上表面Low?K層的表面均勻度實(shí)時(shí)調(diào)整用于加工晶圓上表面Low?K層的激光光束,提高了所述激光加工的精度和分離晶圓的均勻性作用。 |
