一種激光測(cè)距方法及激光測(cè)距儀

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201710937738.4 申請(qǐng)日 -
公開(公告)號(hào) CN109655837B 公開(公告)日 2019-04-19
申請(qǐng)公布號(hào) CN109655837B 申請(qǐng)公布日 2019-04-19
分類號(hào) G01S17/48(2006.01)I;G01S7/497(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 潘繼漢;丁兵;張偉;吳榮波;高云峰 申請(qǐng)(專利權(quán))人 深圳市大族思特科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市世聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 大族激光科技產(chǎn)業(yè)集團(tuán)股份有限公司;深圳市大族思特科技有限公司
地址 518000廣東省深圳市南山區(qū)高新科技園北區(qū)新西路9號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明實(shí)施例屬于激光測(cè)距技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種激光測(cè)距方法及激光測(cè)距儀,所述方法包括將第一激光束和第二激光束以一定的入射角度θ照射至被測(cè)物體表面,所述第一激光束和第二激光束經(jīng)所述被測(cè)物體表面反射后在面陣圖像傳感器上形成兩個(gè)反射光斑,獲取被測(cè)物體運(yùn)動(dòng)前后所述兩個(gè)反射光斑在所述光敏面上的位置坐標(biāo),并根據(jù)所述位置坐標(biāo)得到所述兩個(gè)反射光斑的相對(duì)距離d1和d2;根據(jù)所述入射角度θ及所述相對(duì)距離d1和相對(duì)距離d2獲取所述被測(cè)物體在所述旋轉(zhuǎn)軸的軸向上的位移大?。凰黾す鉁y(cè)距儀用于實(shí)施前述方法。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例提供的技術(shù)方案,通過增加測(cè)量點(diǎn)數(shù)可以提高面陣圖像傳感器的抗干擾性,進(jìn)而提高測(cè)量精度。??