溫度補(bǔ)償型聲表面波濾波器晶圓級封裝結(jié)構(gòu)和制造方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202210382041.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114465591B | 公開(公告)日 | 2022-06-21 |
申請公布號 | CN114465591B | 申請公布日 | 2022-06-21 |
分類號 | H03H3/08;H03H9/02;H03H9/10;H03H9/64 | 分類 | 基本電子電路; |
發(fā)明人 | 不公告發(fā)明人 | 申請(專利權(quán))人 | 深圳新聲半導(dǎo)體有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京康盛知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 陶俊潔 |
地址 | 518109 廣東省深圳市龍華區(qū)民治街道民泰社區(qū)萬科金域華府一期1-8座5座301 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請涉及濾波器技術(shù)領(lǐng)域,公開一種溫度補(bǔ)償型聲表面波濾波器晶圓級封裝結(jié)構(gòu)的制造方法,包括:在濾波器晶圓上形成叉指換能器IDT結(jié)構(gòu)、IDT電氣連接金屬條和芯片邊緣金屬環(huán);在叉指換能器IDT結(jié)構(gòu)、IDT電氣連接金屬條、芯片邊緣金屬環(huán)和濾波器晶圓上淀積溫補(bǔ)層;對溫補(bǔ)層進(jìn)行刻蝕;在暴露出的IDT電氣連接金屬條和芯片邊緣金屬環(huán)上形成金屬層;在金屬層上形成二氧化硅層作為鈍化層,并利用二氧化硅鈍化層與硅蓋晶圓進(jìn)行鍵合,獲得空腔。這樣利用濾波器必要的結(jié)構(gòu)而不需引入額外的鍵合材料層就能夠完成晶圓級封裝,獲得濾波器的空腔結(jié)構(gòu),且空腔結(jié)構(gòu)強(qiáng)度高,芯片面積更小,制造成本更低。本申請還公開一種溫度補(bǔ)償型聲表面波濾波器晶圓級封裝結(jié)構(gòu)。 |
