一種DNA堿基序列檢測(cè)的納米孔三明治結(jié)構(gòu)及其制作方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201811044329.2 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN109182484A | 公開(公告)日 | 2019-01-11 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN109182484A | 申請(qǐng)公布日 | 2019-01-11 |
分類號(hào) | C12Q1/6869;C23C16/34;C23C16/40 | 分類 | 生物化學(xué);啤酒;烈性酒;果汁酒;醋;微生物學(xué);酶學(xué);突變或遺傳工程; |
發(fā)明人 | 袁志山;俞驍;凌新生 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 南京羅島納米科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 南京鐘山專利代理有限公司 | 代理人 | 戴朝榮 |
地址 | 215000 江蘇省蘇州市蘇州工業(yè)園區(qū)若水路398號(hào)中科院納米所D棟918室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種DNA堿基序列檢測(cè)的納米孔三明治結(jié)構(gòu)及其制作方法。首先在基體兩側(cè)表面沉積Si3N4/SiO2/Si3N4三層納米薄膜;接著刻蝕基體一側(cè)薄膜形成基板釋放窗口;接著刻蝕基體另外一側(cè)薄膜中的頂層Si3N4;然后使用堿性溶液從基體釋放窗口刻蝕基板得到由Si3N4/SiO2兩層納米薄膜組成的自支撐納米薄膜。接著在SiO2上方沉積Si3N4,再次得到懸空的納米薄膜結(jié)構(gòu),退火,使用氦離子束刻蝕出納米通孔;最后使用緩沖過(guò)的氫氟酸刻蝕SiO2,得到由SiO2空腔和兩個(gè)Si3N4納米孔組成的三明治結(jié)構(gòu)。本發(fā)明工藝簡(jiǎn)單,與CMOS工藝的兼容使其有較好的擴(kuò)展性,同時(shí)可以重復(fù)循環(huán)使用,有較廣的使用前景。 |
