一種靶材部件及平面靶

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201721669899.1 申請日 -
公開（公告）號 CN207552437U 公開（公告）日 2018-06-29
申請公布號 CN207552437U 申請公布日 2018-06-29
分類號 C23C14/35 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 桂丹 申請（專利權(quán)）人 江西中科泰盛光電有限公司
代理機(jī)構(gòu) 寧波市鄞州甬致專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 黃宗熊
地址 343700 江西省吉安市泰和縣工業(yè)園區(qū)泰和電子智能終端產(chǎn)業(yè)園
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種靶材部件，包括靶材和底座，所述靶材包括多個靶材片，多個靶材片排列形成靶面，各個靶材片均與底座連接，各個靶材片與所述底座經(jīng)銦焊接，各個靶材片均為條形，且相互平行或基本相互平行，各個靶材片均為長度一致或基本一致的矩形片，以靶面中心線為分割線，自靶面中心線向靶面兩側(cè)方向，各個靶材片的寬度逐漸變大，各矩形片形成的靶面為矩形面。本實(shí)用新型通過調(diào)整靶材片來保持靶面滿足濺射工藝的要求，將較快速度消耗掉的靶材片，通過將其移至其它位置，并由仍然較厚的靶材片取而代之，實(shí)現(xiàn)保持靶面滿足濺射工藝的要求，大大的提高了靶材的利用率。