一種滾鍍中性鍍錫工藝

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111283082.1 申請日 -
公開（公告）號 CN113862733A 公開（公告）日 2021-12-31
申請公布號 CN113862733A 申請公布日 2021-12-31
分類號 C25D3/32（2006.01）I 分類 電解或電泳工藝；其所用設備〔4〕;
發(fā)明人 陳春;張兵;向文勝;趙建龍 申請（專利權）人 江蘇艾森半導體材料股份有限公司
代理機構 北京品源專利代理有限公司 代理人 劉二艷
地址 215300江蘇省蘇州市昆山市千燈鎮(zhèn)黃浦江路1647號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種滾鍍中性鍍錫工藝，所述滾鍍中性鍍錫工藝中包括如下步驟：使用含有添加劑的中性鍍錫液進行通電電鍍；所述添加劑包括芳香族氨基酸，所述芳香族氨基酸包括酪氨酸、苯丙氨酸或色氨酸中任意一種或至少兩種的組合。本發(fā)明提供的鍍錫工藝連片少、滲鍍情況少、錫層硬度高。