用于CIS行業(yè)的正性厚膜光刻膠

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201811451678.6 申請日 -
公開（公告）號 CN109270793B 公開（公告）日 2022-01-14
申請公布號 CN109270793B 申請公布日 2022-01-14
分類號 G03F7/039（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 向文勝;張兵;趙建龍;朱坤;陸蘭 申請（專利權(quán)）人 江蘇艾森半導體材料股份有限公司
代理機構(gòu) 北京科億知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 湯東鳳
地址 215000江蘇省蘇州市昆山市千燈鎮(zhèn)黃浦江路1647號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于半導體加工技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種用于CIS行業(yè)的正性厚膜光刻膠，配方包括20?35wt％改性酚醛樹脂、3?5wt％光敏劑、100?500ppm的流平劑、1?3wt％疏松劑和余量的乳酸乙酯。本發(fā)明正性厚膜光刻膠涂布超過50um厚度時涂布均一性能夠控制在5％以下，剖面角度能達到87～90°的范圍，使分辨率保持較高水平。