一種以石墨烯為骨架的硅碳薄膜負(fù)極及制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010708768.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN111969186A | 公開(公告)日 | 2020-11-20 |
申請公布號 | CN111969186A | 申請公布日 | 2020-11-20 |
分類號 | H01M4/36;H01M4/38;H01M4/62;H01M10/0525 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 張悅;劉曙光;龐先標(biāo);楊榮 | 申請(專利權(quán))人 | 自貢興川儲能技術(shù)有限公司 |
代理機構(gòu) | 成都九鼎天元知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 劉小彬 |
地址 | 643000 四川省自貢市沿灘區(qū)板倉工業(yè)園區(qū)東環(huán)路19號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種以石墨烯為骨架的硅碳薄膜負(fù)極及制備方法,屬于鋰離子電池領(lǐng)域。本發(fā)明所述的制備方法包括以下步驟:步驟1.在襯底上生長垂直石墨烯骨架;步驟2.將生長的垂直石墨烯骨架進(jìn)行等離子處理;步驟3.在經(jīng)步驟2處理后的垂直石墨烯骨架上生長硅材料。本發(fā)明設(shè)計科學(xué),方法簡單,操作簡便。本發(fā)明創(chuàng)造性地先在襯底上生長垂直石墨烯,而后再在垂直石墨烯骨架上生長硅材料,從而可以將疏松的硅薄膜嵌入到垂直石墨烯片層之間形成硅碳負(fù)極,能很好地克服硅負(fù)極材料的問題,并且可以充分發(fā)揮垂直石墨烯的面內(nèi)導(dǎo)電性能,提高離子嵌入與析出效率,對于制備大容量鋰離子電池特別是固態(tài)電池具有重要意義。 |
