半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的形成方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010988486.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114203698A | 公開(公告)日 | 2022-03-18 |
申請公布號 | CN114203698A | 申請公布日 | 2022-03-18 |
分類號 | H01L27/092(2006.01)I;H01L21/8238(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 紀世良;涂武濤;陳建;張海洋 | 申請(專利權(quán))人 | 中芯國際集成電路制造(北京)有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 徐文欣 |
地址 | 201203上海市浦東新區(qū)張江路18號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),包括:襯底,所述襯底包括第一區(qū)和第二區(qū),所述第二區(qū)位于相鄰第一區(qū)之間;位于襯底上的第一鰭部結(jié)構(gòu)和第二鰭部結(jié)構(gòu),所述第一鰭部結(jié)構(gòu)橫跨所述第二區(qū),所述第二鰭部結(jié)構(gòu)平行于所述第一鰭部結(jié)構(gòu);位于第二區(qū)上的第一防擴散結(jié)構(gòu)和第二防擴散結(jié)構(gòu),部分所述第一防擴散結(jié)構(gòu)位于第一鰭部結(jié)構(gòu)內(nèi),部分所述第二防擴散結(jié)構(gòu)位于第二鰭部結(jié)構(gòu)內(nèi),所述第一防擴散結(jié)構(gòu)至少和兩個第二防擴散結(jié)構(gòu)相接。所述半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的性能得到提升。 |
