玻璃基片鍍SIO2的掩膜體的方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201010196069.8 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN101881926A 公開(kāi)（公告）日 2010-11-10
申請(qǐng)公布號(hào) CN101881926A 申請(qǐng)公布日 2010-11-10
分類(lèi)號(hào) G03F7/00(2006.01)I 分類(lèi) 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類(lèi)似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 李益芳;王磊;劉錫鋼;余漢水;毛飛 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 深圳拓勵(lì)達(dá)光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市中知專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 代理人 深圳市拓勵(lì)達(dá)光電科技有限公司;深圳力合光電傳感股份有限公司
地址 518132 廣東省深圳市光明新區(qū)公明辦事處長(zhǎng)圳社區(qū)第四工業(yè)區(qū)19號(hào)三層A區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種玻璃基片鍍SIO2的掩膜體的方法，其特征在于光刻材料為：液晶顯示器用正性光刻膠，其密度為1.06g/cm3，閃點(diǎn)為：47度，沸點(diǎn)為146度；具體步驟如下：在清洗后的基板上涂正性光刻膠，膜厚為1.2um～1.8um；預(yù)烘的固化溫度為：80～110℃，時(shí)間為100～150分鐘；曝光參數(shù)：80～150mj，母板與基板之間的間隙GAP量：100～200um；把氫氧化鉀KOH配比成0.55％的水溶液，顯影溫度設(shè)定：22～24℃，時(shí)間為：40～120秒；固化溫度設(shè)定：100～120℃，時(shí)間：5～20分鐘；真空濺射鍍SIO2膜層鍍膜室的鍍膜溫度控制在110～130℃；由乙醇胺、二甲基亞砜構(gòu)成的正膠剝離液作為脫膜液進(jìn)行脫膜；去除基板上光刻膠，溫度控制：40-60度，時(shí)間：10-20min；最后清洗。