弧源裝置及該弧源裝置的弧源磁場的調節(jié)方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201811204516.2 申請日 -
公開（公告）號 CN109385607A 公開（公告）日 2021-06-15
申請公布號 CN109385607A 申請公布日 2021-06-15
分類號 C23C14/32;C23C14/14 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 周敏;王文寶;朱巖;李軍旗 申請（專利權）人 深圳精匠云創(chuàng)科技有限公司
代理機構 深圳市賽恩倍吉知識產權代理有限公司 代理人 唐芳芳;李艷霞
地址 518109 廣東省深圳市龍華區(qū)龍華街道東環(huán)二路二號富士康科技園D1區(qū)塑模廠1層及夾層A區(qū)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提出一種弧源裝置，包括靶材、橫置線圈、多個縱置線圈及電源，橫置線圈平行于靶材且位于靶材之后，多個縱置線圈依次設置于橫置線圈中，橫置線圈、多個縱置線圈與靶材之間的垂直距離相同，電源與橫置線圈、多個縱置線圈分別電性連接且能夠分別調節(jié)橫置線圈及多個縱置線圈的電流大小及方向。本發(fā)明還提出一種弧源磁場的調節(jié)方法。本發(fā)明的弧源裝置通過調節(jié)多個磁極平行于靶材平面的縱置線圈的電流，來耦合出磁拱位置形狀不同的磁場，從而增加了靶材的利用率。并且每個縱置線圈能夠獨立調節(jié)電流，從而保證耦合的磁拱即使位置形狀不同，但耦合磁拱的頂部在靶材上的磁場強度保持近似，從而確?；“哌\動速度不減弱，從而保證液滴不增加。