擴(kuò)散后方塊電阻和少子壽命異常硅片的處理辦法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201310720135.0 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN103745940B | 公開(kāi)(公告)日 | 2016-08-17 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN103745940B | 申請(qǐng)公布日 | 2016-08-17 |
分類號(hào) | H01L21/66(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 楊佳;謝余才;楊利利;安百俊;王雄;武建;李天钚 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 寧夏銀星能源股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 寧夏專利服務(wù)中心 | 代理人 | 趙明輝 |
地址 | 750021 寧夏回族自治區(qū)銀川市西夏區(qū)六盤山西路166號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種擴(kuò)散后方塊電阻(簡(jiǎn)稱方阻)和少子壽命異常硅片的處理辦法,該方法用于處理因擴(kuò)散不當(dāng)而不合質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)的硅片。其特點(diǎn)是,包括如下步驟:(1)首先對(duì)單晶硅片單面擴(kuò)散后方塊電阻和少子壽命異常硅片進(jìn)行分類,第一類為方阻和少子壽命分別為90?130Ω/sq和0?2μs,第二類為方阻和少子壽命分別為75?90Ω/sq和4?20μs,第三類為方阻和少子壽命分別為40?50Ω/sq和4?20μs,第四類為方阻和少子壽命分別為60?75Ω/sq和2?4μs;(2)對(duì)第一類硅片進(jìn)行如下處理:按原擴(kuò)散工藝再重復(fù)進(jìn)行一次擴(kuò)散。采用本發(fā)明的方法后,省去了重新清洗制絨的環(huán)節(jié),大大節(jié)約了返工成本、時(shí)間。 |
