一種磁控濺射鍍光學(xué)膜膜厚監(jiān)控方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201310749608.X 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN103673905A 公開（公告）日 2014-03-26
申請(qǐng)公布號(hào) CN103673905A 申請(qǐng)公布日 2014-03-26
分類號(hào) G01B11/06(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I 分類 測(cè)量；測(cè)試;
發(fā)明人 程春生;張欽廉;曹嘉寰;符東浩 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 合波光電通信科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海新天專利代理有限公司 代理人 徐偉奇
地址 314200 浙江省嘉興市平湖市經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)新興一路669號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種磁控濺射鍍光學(xué)膜膜厚監(jiān)控方法，該方法包括如下步驟：①設(shè)計(jì)一種特定膜系，該膜系主要用于對(duì)磁控濺射鍍膜沉積速率的監(jiān)控；②在一定工藝條件下，利用磁控濺射沉積該特定膜系，通過鍍膜過程中監(jiān)控鍍膜沉積速率，或鍍膜完成后測(cè)試、計(jì)算該沉積速率；③采用與②相同工藝條件，將②中的沉積速率換算后采用時(shí)間或圈數(shù)監(jiān)控膜厚，實(shí)現(xiàn)最終膜系的制備。本發(fā)明的制作方法利用光學(xué)方法監(jiān)控沉積速率，時(shí)間、圈數(shù)或類似方法監(jiān)控膜層厚度，可擺脫光學(xué)監(jiān)控對(duì)光源波長(zhǎng)、單層光譜變化值等限制。