用于真空鍍膜系統(tǒng)的環(huán)形坩堝

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201520920849.0 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN205188413U 公開（公告）日 2016-04-27
申請(qǐng)公布號(hào) CN205188413U 申請(qǐng)公布日 2016-04-27
分類號(hào) C23C14/24(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 謝繼闖 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 合波光電通信科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 代理人 林松海
地址 314200 浙江省嘉興市平湖經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)新興一路725號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種用于真空鍍膜系統(tǒng)的環(huán)形坩堝，包括環(huán)形主體、水流分流板、底板、冷卻水導(dǎo)管、旋轉(zhuǎn)主軸，環(huán)形主體的中心通過螺絲固定水流分流板，外圈設(shè)有氟橡膠密封圈，底板通過固定螺栓與固定水流分流板相連壓緊氟橡膠密封圈后形成一個(gè)中空腔體為冷卻水提供循環(huán)空間，然后整體固定在電機(jī)的旋轉(zhuǎn)主軸上，主軸中空，內(nèi)部設(shè)有冷卻水導(dǎo)管為所述中空腔體提供冷卻水。所述的環(huán)形主體進(jìn)一步設(shè)有上蓋板，用于為防止蒸鍍過程對(duì)固定螺栓的污染。本實(shí)用新型的有益效果是：增大冷卻水冷卻面積后可以避免蒸鍍材料在預(yù)熔料過程中出現(xiàn)的結(jié)構(gòu)密度問題，能有效減少預(yù)熔次數(shù)節(jié)約蒸鍍材料穩(wěn)定蒸鍍速率。