用于物理氣相沉積薄膜厚度分布控制的修正擋板

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201520974591.2 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN205241781U 公開（公告）日 2016-05-18
申請(qǐng)公布號(hào) CN205241781U 申請(qǐng)公布日 2016-05-18
分類號(hào) C23C14/24(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 方明;王英劍;劉斌;趙浩 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 合波光電通信科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 代理人 林松海
地址 314200 浙江省嘉興市平湖經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)新興一路725號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種用于物理氣相沉積薄膜厚度分布控制的修正擋板，所述的修正擋板為一對(duì)，采用蝴蝶翅膀形彎折的結(jié)構(gòu)，固定在物理氣相沉積設(shè)備的特定位置，修正板分別只對(duì)一個(gè)蒸發(fā)源在鍍膜面上具有陰影效應(yīng)，使得兩個(gè)蒸發(fā)源可以被獨(dú)立的控制，且無機(jī)械運(yùn)動(dòng)部件，可以在復(fù)合薄膜沉積過程中實(shí)現(xiàn)兩種或多種材料無耦合地控制。