降低逆向漏電流的GaN場效應(yīng)管組件胞架構(gòu)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201610488152.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN107546255A | 公開(公告)日 | 2018-01-05 |
申請公布號 | CN107546255A | 申請公布日 | 2018-01-05 |
分類號 | H01L29/06(2006.01)I;H01L29/20(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 廖奇泊;胡建國;周雯 | 申請(專利權(quán))人 | 廈門芯晶亮電子科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海漢聲知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 廈門芯晶亮電子科技有限公司 |
地址 | 361028 福建省廈門市海滄區(qū)新樂東路9號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供的一種降低逆向漏電流的GaN場效應(yīng)管組件胞架構(gòu),包括:N型基板;N型GaN層沉積在N型基板上,在N型GaN層的兩側(cè)設(shè)有P型植入?yún)^(qū);P型硅層沉積在N型GaN上;N型源極沉積在P型硅層上;柵極溝槽設(shè)置在N型GaN層上及P型硅層上,柵極溝槽連接N型源極與N型GaN層;N型多晶硅沉積在柵極溝槽內(nèi);絕緣層包裹在柵極溝槽的外側(cè);介電層沉積在P型硅層上;金屬層覆蓋介電層上。本發(fā)明在N型的GaN基板上局部去除一定的厚度和形成一個重?fù)诫s的P型區(qū)域,由于P型的濃度大于N型GaN的摻雜濃度因此空乏區(qū)主要延伸在N型GaN區(qū)域,另外由于屏蔽電場出現(xiàn)在接口結(jié)構(gòu)缺陷區(qū)域,因此可以降低接口缺陷所造成的逆向漏電流。 |
