用于投影光柵建模的成像方法及裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910311143.7 申請日 -
公開（公告）號 CN109900223B 公開（公告）日 2021-10-08
申請公布號 CN109900223B 申請公布日 2021-10-08
分類號 G01B11/25（2006.01）I;G01B11/245（2006.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 袁丹壽;孫燕生;黃沛杰 申請（專利權(quán)）人 盎銳（上海）信息科技有限公司
代理機構(gòu) 上海知義律師事務(wù)所 代理人 劉峰
地址 201703上海市青浦區(qū)滬青平公路3938號1號樓206
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種用于投影光柵建模的成像方法及裝置，所述成像方法通過一成像裝置實現(xiàn)，所述成像裝置包括至少兩個相機、一投影儀以及一處理器，所述成像方法包括：所述處理器標定所述至少兩個相機以及投影儀；所述投影儀對一平面區(qū)域投射若干幀結(jié)構(gòu)光圖像；對于每一相機，所述處理器根據(jù)所述相機拍攝的若干幀結(jié)構(gòu)光影像獲取所述平面區(qū)域上影像的包裹相移；根據(jù)每一相機的包裹相移利用極限匹配獲取平面區(qū)域上影像的絕對相移。本發(fā)明的用于投影光柵建模的成像裝置能夠快速獲取低高度物體的模型，而且使投影光柵建模的精度更高，建立的模型更加保真。