一種利用低濃度HF溶液處理SiF4尾氣的尾氣吸收裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202020737330.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN212167037U | 公開(公告)日 | 2020-12-18 |
申請公布號 | CN212167037U | 申請公布日 | 2020-12-18 |
分類號 | B01D53/78;B01D53/68 | 分類 | 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置; |
發(fā)明人 | 栗廣奉;鄭安雄;姜忠平;吳前程 | 申請(專利權(quán))人 | 浙江中寧硅業(yè)有限公司 |
代理機構(gòu) | 衢州維創(chuàng)維邦專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 浙江中寧硅業(yè)有限公司 |
地址 | 324000 浙江省衢州市柯城區(qū)高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)園區(qū)華蔭北路27號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種利用低濃度HF溶液處理SiF4尾氣的尾氣吸收裝置,包括一級循環(huán)水洗部、二級循環(huán)水洗部、三級循環(huán)水洗部、循環(huán)堿洗部以及尾氣風(fēng)機;所述一級循環(huán)水洗部、二級循環(huán)水洗部、循環(huán)堿洗部以及尾氣風(fēng)機依次逐級連通,其特征在于:所述一級循環(huán)部的輸入端設(shè)置有用于緩沖待處理的SIF4氣體壓力波動的緩沖單元;所述緩沖單元包括尾氣緩沖罐;所述尾氣緩沖罐包括內(nèi)部設(shè)置有緩沖腔的罐體、設(shè)置在緩沖腔內(nèi)的螺旋緩沖管以及蝶閥;所述尾氣緩沖罐上設(shè)置有進氣管和出氣管;所述螺旋緩沖管橫向設(shè)置緩沖腔內(nèi);且螺旋緩沖管的兩端分別與進氣管和出氣管連通;所述蝶閥安裝在出氣管的輸出口內(nèi)。本發(fā)明實用性強,易于推廣。 |
