一種隧道氣氛窯爐超低氧含量控制系統(tǒng)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201922161908.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN211060631U | 公開(公告)日 | 2020-07-21 |
申請公布號 | CN211060631U | 申請公布日 | 2020-07-21 |
分類號 | F27B9/02(2006.01)I | 分類 | - |
發(fā)明人 | 陳再華;傅強;戴海生;葉廣觀;藍利波 | 申請(專利權)人 | 浙江阿佩克斯能源科技有限公司 |
代理機構 | 麗水創(chuàng)智果專利代理事務所(普通合伙) | 代理人 | 閆曉紅 |
地址 | 323010浙江省麗水市蓮都區(qū)南明山街道石牛路268號3號樓B幢 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種隧道氣氛窯爐超低氧含量控制系統(tǒng),包括爐體、位于窯爐前后的氣氛置換過渡室和用于進料出料的輸送軌道;爐體從進到出依次為預熱區(qū)、高溫區(qū)和冷卻區(qū),在氣氛置換過渡室、預熱區(qū)、高溫區(qū)和冷卻區(qū)上分別設有氮氣進氣口,預熱區(qū)和冷卻區(qū)分別設有排氣設備,氣氛置換過渡室設為雙門結構,氣氛置換過渡室側壁設有出氣口及風機,電容炭處理中,通過氮氣進氣口充入氮氣,排氣設備將多余氣體排出,氮氣在爐體內(nèi)形成回轉(zhuǎn)循環(huán)氣流,分布均勻,有效將爐體內(nèi)高溫環(huán)境下的氧含量控制在5ppm以下,實現(xiàn)電容炭表面含氧官能團濃度指標控制在0.5mmol/g以下。?? |
