一種投影曝光裝置及方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201510646618.X 申請日 -
公開（公告）號 CN106569390B 公開（公告）日 2019-01-18
申請公布號 CN106569390B 申請公布日 2019-01-18
分類號 G03F7/20 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 陳躍飛;于大維;潘煉東;周暢 申請（專利權(quán)）人 上海微高精密機械工程有限公司
代理機構(gòu) 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 上海微電子裝備（集團）股份有限公司;上海微高精密機械工程有限公司
地址 201203 上海市浦東新區(qū)張東路1525號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供一種投影曝光裝置，依次包括：照明光源、掩膜版、掩膜臺、基板、工件臺、控制系統(tǒng)，在每個曝光區(qū)域內(nèi)皆并排設(shè)有對準焦面測量系統(tǒng)和投影物鏡組且位于掩膜臺和基板之間，對準焦面測量系統(tǒng)用于在所述掃描曝光過程前或掃描曝光過程中，對所述掩膜版和所述基板進行對準測量的同時，進行所述基板的焦面測量。本發(fā)明還提供一種投影曝光方法，將每一個對準標記計算出原先坐標和補償量并相加得到補償坐標，計算掩膜版與基板的相對位置并且移動工件臺補償，同時完成位置與焦面對準，具有結(jié)構(gòu)簡單、占用空間小、精準度高的優(yōu)點。